华为要自研光刻机了?
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  • 2020-07-27

      最近各大媒体都在爆料,华为正在大规模的网罗光刻机人才。有传言上海微电子的光刻机人才接到一个电话就走了,甚至影响到了国家重点项目的推进。

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      最近全球芯片行业风起云涌,英伟达打算收购ARM、Intel的7nm技术不及预期导致股价暴跌… …

      这是一个经济全球化的时代,人和人之间,企业和企业之间,国和国之间,都千丝万缕密不可分。

      你向华为挥起大刀的时候,先倒下的很可能是高通。

      那么,回到华为的问题,华为做得了光刻机吗?

      实事求是的讲,如果没有多年的积淀,很难。

      知乎上有人提问,光刻机和氢弹相比,哪个更难?更有专业答主回答称,起码要追赶50年。

      小编觉得,多看看历史,就容易打脸。要知道,50年前清华大学的光刻机是国际领先水平的。

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      附图:1972年,武汉无线电元件三厂编写的《光刻掩模版的制造》,32开66页。

      1970年代,中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。清华大学研制第四代分步式投影光刻机,并在1980年获得成功,光刻精度达到3微米,仅次于美国,远远领先韩国和台湾。

      为什么后来技不如人呢?

      市场。

      半导体行业是需要大量资金驱动的,只靠财政资金无以为继,只有强大的市场才能解决资金来源。那个年代我们没有庞大的PC用户,也没有很多用得起服务器的企业。

      现在时代不同了,我们有世界上最大的芯片需求用户。

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      手机的普及、5G的普及,催生了全球最大的芯片需求市场。

      有市场,有人才,有钱。

      缺什么?

      人才。

      有人问,中国的光刻机需要多久才能追上?

      其实,这个问题,官方早给出答案了。

      1、时间点,2025年。

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      出处:2015年5月国务院印发的《中国制造2025》。

      2、关键技术突破,02专项。

      02专项即:《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目,因次序排在国家重大专项所列16个重大专项第二位,在行业内被称为“02专项”。

      3、已验收项目。

      EUV极紫外光源(中科院长春光机所)、EUV光刻胶(中国科学院化学研究所、中国科学院理化技术研究所、北京科华微电子材料有限公司联合承担)、高NA浸没光学系统(长春国科精密光学)、光刻机双工件台系统(清华大学、华卓精科)、区熔硅单晶片产业化技术(中环股份)... ...

      你可以说他们在骗经费,因为这个规划比较早,所以提到的只是14nm,但是EUV能干什么,大家都很懂,反正我不是很懂。

      我们在科创板的招股书里,也看到了光刻机的另外一个核心部件—光学镜头—有好几家公司在研发。

      换言之,光刻机的核心工艺其实已经攻克了,剩下的,就是商业化量产。

      目前正在从事整合工作的是上海微电子,预计2020年-2021年交付22nm的光刻机。

      华为招募的光刻机人才有两种可能:一是类似在台积电进驻的协作人员,双方在芯片生产环节充分沟通,确保成本和技术最优;二是不等了,搞Intel的战略:我自己来。

      难度有多大呢?

      难度是有的,从02专项的验收成果来看,核心技术其实都已经突破了,剩下的就是人和钱的问题。

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